《科创板日报》15日讯，据“我国光谷”今天音讯，光谷企业近来在半导体专用光刻胶范畴完成重大突破：武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，完成配方全自主规划，有望创始国内半导体光刻制作新局面。该产品对标世界头部企业干流KrF光刻胶系列。相较于被业界称之为“妖胶”的国外同系列新产品UV1610，T150 A在光刻工艺中体现出的极限分辨率到达120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优异，其对后道刻蚀工艺体现更为友爱，通过验证发现T150 A中密布图形通过刻蚀，基层介质的侧壁笔直度体现优异。