在 2024 年 10 月 15 日这一重要的日子里，武汉东湖新技能开发区办理委员会（我国光谷）传来了一则振奋人心的音讯。

  光谷的太紫微光电科技有限公司（太紫微公司）在半导体专用光刻胶范畴成功完成了严重打破。太紫微公司于 2024 年 5 月刚刚建立，其背面有着华中科技大学武汉光电国家研究中心团队的强力支撑。

  它通过了严厉的半导体工艺量产验证，完成了配方的全自主规划，这在以往一直是国内半导体光刻胶范畴的短板。

  从功能方面来看，T150A 光刻胶展示出了极为杰出的优势。它对标世界头部企业的干流 KrF 光刻胶系列，在光刻工艺中，其极限分辨率达到了令人瞩目的 120nm，这在某种程度上预示着它可以在更精密的图形制作上发挥重要作用。

  与被业界称为“妖胶”的国外同系列新产品 UV1610 比较，T150A 光刻胶在工艺宽恕度上更胜一筹，稳定性极高，坚膜后烘留膜率也非常优异。

  更难能可贵的是，它对后道刻蚀工艺体现出了极为友爱的特性，当密布图形通过刻蚀后，基层介质的侧壁笔直度仍然能坚持优异的状况。

  太紫微公司的企业负责人朱明强是英国皇家化学会会员，也是华中科技大学的教授。他清晰说，从原材料开发起步，终究取得自主知识产权的配方技能，这只是是一个初步。团队深知，要想真正在国内半导体光刻制作范畴创始簇新局势，不能只是满足于这一项效果。因而，他们决计持续发力，方案开展一系列应用于不同场景下的 KrF 与 ArF 光刻胶。

  这一打破无疑具有严重的含义。它不只填补了国内涵高端光刻胶范畴的部分空白，打破了国外在该范畴的部分技能独占，为国内半导体工业的自主可控开展注入了强壮的动力。

  信任在太紫微公司团队的不懈努力下，未来将会有更多高功能的光刻胶产品不断涌现，推进我国的半导体光刻制作在全球舞台上逐渐占有更重要的位置，让我们一起等待太紫微公司未来为国内相关工业带来的更多惊喜和成果。回来搜狐，检查更加多