日前在韩国的一场半导体交流活动中，ASML韩国营销司理MyoungKuy Lee泄漏，

  据悉，这款薄膜是ASML与Teradyne（泰瑞达）联合研制，日本三井化学代工，现已通过了400瓦测验。

  ASML 2016年初次开宣布光罩薄膜，其时的透光率是78%。随后在2018年，薄膜透光率提升到80%，上一年提升到85%。

  薄膜用于维护光罩免受污染，单价2.6万美元左右（约合人民币16.78万元）。

  别的，韩国企业FST、S&S Tech也都在严重开发EUV光刻机所需的薄膜，FST此前预期上半年开端供给90%透光率的碳化硅薄膜。