据日经中文网报导，日本中心硝子（Central Glass）开发出了用于功率半导体资料“

　　据介绍，中心硝子开发出了运用含有硅和碳的溶液（液相法）来制造SiC衬底的技能。与运用高温下进步的SiC使单晶成长（进步法）的传统技能比较，液相法在增大衬底尺度以及进步质量方面更具优势。该技能可使衬底的制造本钱下降10%以上，良率也会大幅度提高。

　　因为运用液相法制备SiC衬底较为杂乱，此前该技能一向未应用在实践生产中。中心硝子运用根据核算机的核算化学，经过计算溶液的动态等，成功量产出了6英寸SiC衬底。在此基础上，公司计划最早于2030年把尺度扩大到8英寸。

　　据了解，自2022年4月起，中心硝子就渐渐的开端运用液相法研讨和开发SiC晶圆。

　　本年4月，中心硝子宣告其“高质量8英寸SiC单晶/晶片制造技能开发”项目经过审阅查看，被日本新能源和工业技能开发安排（NEDO）的视为绿色立异基金项目（项目期限为2022财年至2029财年）。该项目后续将取得来自NEDO的赞助，这一发展将有利于中心硝子加快8英寸SiC衬底的开发。

　　报导指出，为了让客户采用以新技能制造的SiC衬底，中心硝子已开端与欧美的大型半导体企业等打开参议。中心硝子最早将于2024年夏天开端向客户供给样品，2027～2028年完成商业化。该公司将在日本国内的工厂施行数十亿日元规划的出资，争夺将市场占有率超越10％。